반도체 공정 및 분석 연구실

● Opto-electronic devices (LEDs, solar cells, photodetectors, etc.) ● Multi-dimensional materials (graphene, black phosphorus, TMDs, hBN, etc.) ● Chemical etching and thickness control of compound semiconductors and two-dimensional materials. 2026년 8월 3일 ~ 8월 28일 이나경 학생이 SPECTRINKO(Sustainable Power Electronics: Collaboration on Training, Research and Innovations between Norway and Korea)프로그램으로 노르웨이 University of Oslo에서 교환연구를 수행하였습니다. 파견 기간동안 Hydrogenation of metastable Ga2O3 polymorphs of reaching tunable electronic doping에 관한 공동 연구를 진행하였습니다. 현재 실리콘 기반 반도체가 가지고 있는 한계를 넘어서기 위해서는 소재와 공정 모두의 혁신이 요구됩니다. 소재 측면에서는 band-gap engineering, heteroepitaxy 기술 개발, 초고순도화, 다차원 반도체 소재 발굴, 친환경 소재 개발 등이 필요하고, 공정에서는 세정, 건식/습식 식각, 산화, 리소그래피, 금속 증착 공정, ALD, 패키징 등을 포함하여 전체 반도체 제조 공정을 process integration/architecture 관점에서 연구할 필요가 있습니다. 본 연구실에서는 차세대 고성능 반도체 소재/공정 연구를 통해, 연구 개발된 소재에 최적화된 신공정을 개발하여, 최종적으로 반도체소자의 물성/성능을 극한까지 이끌어내는 것을 목표로 하고 있습니다.